<뉴스1> 특허청 한중일 디자인포럼.. 캐릭터디자인 보호모색
17-05-11 13:01
특허청은 중국, 일본 특허청과 공동으로 16일 오전 9시 서울 한국과학기술회관(12층) SC 컨벤션센터에서 '한 중 일 디자인 포럼'을 개최한다. 올해 디자인포럼은 '캐릭터 디자인의 보호(Legal Protection of Character Design)'를 주제로 개최된다.
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